项目简介

进军亚纳米时代，超越EUV光刻机，延续摩尔定律！ 过去的半个多世纪，半导体行业一直遵循着摩尔定律（Moore‘s law）的轨迹高速的发展，如今半导体制程节点借助于EUV光刻等先进技术，正在向3nm甚至更小的节点演进，每进步1nm，为技术提升都需要付出巨大的努力代价。 为了摩尔定律能够延续,半导体制程必须进军亚纳米时代。由于EUV光源波长的物理限制和成品率限制，EUV光刻技术已经无法满足亚纳米时代的需求。这需要超越EUV光刻机，首先开发出光源波长更短的光刻技术。 电子束辐射源的波长可比EUV光源波长短3个

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